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未胶电子材料
专注半导体材料及设备革新领域
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。
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未胶电子材料
专注半导体材料及设备革新领域
上海未胶电子材料有限公司成立于2020年。公司聚集了多种半导体、LED、MEMS、PV等领域应用的设备及材料,并在该领域拥有多家高水平用户。
公司拥有国家及行业的各项安全资质,严格把控产品质量、运输、安全等环节。致力于为客户提供全方位的售前、售后技术支持。
我们期望服务于更广泛的客户群体,建立更多样的价值服务,和您一起分享成功!
24小时服务热线:13585924975
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